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基于notch结构的GaN耿氏二极管及制作方法

4832018/09/03
基本信息
  • 成果类型 高等院校
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 成果持有方 西安电子科技大学
  • 行业领域 微电子
  • 项目名称 基于notch结构的GaN耿氏二极管及制作方法
  • 知识产权 发明专利
  • 项目简介 本发明公开了一种基于notch结构的GaN耿氏二极管及其制作方法,主要解决现有耿氏器件中渡越层位错浓度高、散热性差的问题。该二极管自下而上为:SiC衬底、AlN成核层、下n+GaN阴极欧姆接触层、AlGaN电子发射层、上n+GaN阴极欧姆接触层、GaN notch层、n‑GaN渡越层和n+GaN阳极欧姆接触层的多层结构,Al组分自下而上由0%线性渐变到20%。在下n+GaN阴极欧姆接触层的上方和SiC衬底的下方分别设有环形电极和衬底电极,n+GaN阳极欧姆接触层的上方为圆形电极,环形电极和圆形电极上方设有钝化层。本发明能显著降低位错浓度,减小“死区”长度,适用于太赫兹频段工作。
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交易信息
  • 意向交易额 面议
  • 挂牌时间 2017/10/24
  • 委托机构 西安电子科技大学
  • 联系人姓名 王小刚
  • 联系人电话 15802954800
  • 联系人邮箱 745490733@qq.com
  • 分享至:

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